[发明专利]一种基于扫描电镜的高分辨率晶体取向获得方法在审

专利信息
申请号: 201610919156.9 申请日: 2016-10-21
公开(公告)号: CN106501292A 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 柴林江;吴昊;祝祥辉;杨绪盛;张朕浩;黄灿;黄伟九 申请(专利权)人: 重庆理工大学
主分类号: G01N23/22 分类号: G01N23/22
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司50212 代理人: 李晓兵
地址: 400054 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明提供了基于扫描电镜的高分辨率晶体取向获得方法,步骤为1、利用电火花线切割方式制得300μm~500μm厚的金属样品;然后用金相砂纸逐级打磨减薄至100μm以下;在‑10 °C~‑40 °C下,在电解液中使用电解双喷仪在电压为10V~25V的条件下进行电解双喷减薄30s~200s;2、将金属样品置于预倾样品台中装夹固定,样品与电子束倾角‑20°~0°、加速电压15kV~30 kV、工作距离5mm~9mm进行参数采集。本发明在扫描电镜的平台下在晶体取向分析方面实现了显著优于常规背散射电子衍射技术的空间分辨率及角分辨率;还具有设备简单、操作方便、技术可靠、数据采集效率高、易于处理分析和可重复性好等优点。
搜索关键词: 一种 基于 扫描电镜 高分辨率 晶体 取向 获得 方法
【主权项】:
一种基于扫描电镜的高分辨率晶体取向获得方法,其特征在于包括以下步骤:1)制备检测的金属样品利用电火花线切割方式制得300μm~500μm厚的金属样品;然后使用金相砂纸打磨减薄至100μm以下;再在温度为‑10 °C~‑40 °C范围内,在电解液中,使用双喷电解仪在电压为10V~25V的条件下进行双喷减薄电化学抛光30s~200s,制得适宜检测的金属样品;2)将制得的金属样品置于扫描电镜的预倾样品台装夹固定,调整参数:样品与电子束倾角、加速电压和工作距离,采集到工艺要求的晶体取向参数。
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