[发明专利]一种彩膜基板母板有效
| 申请号： | 201610920262.9 | 申请日： | 2016-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN106444138B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 杨同华;冯贺;万冀豫;张思凯;汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 刘伟;皇甫韵啸 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明一种彩膜基板母板，所述彩膜基板母板至少包括形成在衬底基板第一区域的第一显示产品的膜层图形和形成在衬底基板第二区域的第二显示产品的膜层图形，在所述衬底基板上由黑矩阵限定出多个开口结构，所述第一区域的开口结构的尺寸大于所述第二区域的开口结构的尺寸，在所述第一区域，至少一个开口结构靠近所述衬底基板一侧的横截面的尺寸大于远离所述衬底基板一侧的横截面的尺寸；和/或，在所述第二区域，至少一个开口结构靠近所述衬底基板一侧的横截面的尺寸小于远离所述衬底基板一侧的横截面的尺寸；其中，横截面为平行于所述衬底基板方向上的截面。本发明提供的彩膜基板母板能够改善实际膜厚与设计规格不同的状况。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 母板 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板母板，包括衬底基板，其特征在于，所述衬底基板至少包括第一区域和第二区域，所述第一区域和第二区域分别包括多个开口结构，所述开口结构由黑矩阵限定形成，所述第一区域的开口结构的尺寸大于所述第二区域的开口结构的尺寸，在所述第一区域，至少一个开口结构靠近所述衬底基板一侧的横截面的尺寸大于远离所述衬底基板一侧的横截面的尺寸；和/或在所述第二区域，至少一个开口结构靠近所述衬底基板一侧的横截面的尺寸小于远离所述衬底基板一侧的横截面的尺寸；其中，横截面为平行于所述衬底基板方向上的截面；所述第一区域中，所述靠近所述衬底基板一侧的横截面的尺寸大于远离所述衬底基板一侧的横截面的尺寸的至少一个开口结构远离所述衬底基板的一侧设置有凸沿，所述凸沿的横截面为三角形。
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