[发明专利]一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法有效
| 申请号： | 201610920670.4 | 申请日： | 2016-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN107976868B | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 孟春霞;闻人青青;张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法，该装置包括围设于掩模外侧的冷却框架，所述冷却框架顶部设有透明罩板，所述冷却框架与所述透明罩板密封连接，所述冷却框架的内侧壁、所述掩模的上表面以及所述透明罩板的下表面形成密闭空间，所述密闭空间内通有流动的冷媒。本发明在原有掩模台的结构基础上，增加可以直接对掩模四周及表面进行冷却的冷却框架，针对掩模本身进行浸没式迅速冷却降温；同时由于冷却框架顶部为透明罩板，不会影响掩模的曝光过程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 式掩模 冷却 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种浸没式掩模冷却装置，其特征在于，包括围设于掩模外侧的冷却框架，所述冷却框架顶部设有透明罩板，所述冷却框架与所述透明罩板密封连接，所述冷却框架的内侧壁、所述掩模的上表面以及所述透明罩板的下表面形成密闭空间，所述密闭空间内通有流动的冷媒。
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