[发明专利]一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置

摘要

一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置。属于金刚石薄膜的化学气相沉积技术领域。为了解决真空条件下CVD金刚石薄膜在微刀具上的沉积问题。壳体上下端分别与上盖和底座可拆卸密封连接构成反应室，真空计固定在上盖上，真空计的检测端紧密穿入上盖设置在壳体内，上盖上固定有与壳体内腔相通的管路，针阀固定在上盖的管路上，针阀与管路相通，上盖的观察孔一处固定有观察窗一，上盖上设有多个冷水环槽，壳体的侧壁上的两个观察孔二处各固定有一个观察窗二，电磁阀固定在底座的进气孔处，导气管一端连接于进气箱，另一端与反应室相通，导气管上安装有导气阀门，载物台设置在反应室内并固定在底座上。本发明主要用于对沉积件微刀具表面金刚石薄膜沉积。

主权项

1.一种用于化学气相沉积金刚石薄膜的紧凑型真空反应装置，其特征在于：其组成包括真空计（1）、针阀（2）、上盖（3）、壳体（4）、底座（6）、电磁阀（7）、红外测温仪（8）、导气管（11）、导气阀门（12）、载物台（9）及三个观察窗（5）；所述的三个观察窗（5）分别是观察窗一（5‑1）及两个观察窗二（5‑2）；所述的壳体（4）上端和下端分别与上盖（3）和底座（6）可拆卸密封连接，由壳体（4）、上盖（3）和底座（6）组合构成反应室，所述的真空计（1）固定在上盖（3）上表面，所述的真空计（1）的检测端紧密穿入上盖（3）上的通孔设置在壳体（4）内，所述的上盖（3）上固定有与壳体（4）内腔相通的管路，所述的针阀（2）固定在上盖（3）的管路上，针阀（2）与管路相通，上盖（3）上设置有观察孔一，所述的观察孔一处设置有观察窗一（5‑1），所述的观察窗一（5‑1）固定在上盖（3）上表面，上盖（3）上设有多个冷水环槽（3‑3），上盖（3）上设有导气孔一；所述的壳体（4）由焊接壳体（4‑1）和冷水槽壳体（4‑2）组成，所述的焊接壳体（4‑1）和冷水槽壳体（4‑2）均为圆筒形状，所述的冷水槽壳体（4‑2）紧密套装在焊接壳体（4‑1）外侧且二者焊接，所述的冷水槽壳体（4‑2）的内壁上加工有多个同轴的圆环形冷水槽（4‑3），冷水槽壳体（4‑2）的侧壁上设置有进水孔（4‑4）和出水孔（4‑5），所述的进水孔（4‑4）设置在多个圆环形冷水槽（4‑3）中位于最底部的圆环形冷水槽（4‑3）的槽底面上，所述的出水孔（4‑5）设置在多个圆环形冷水槽（4‑3）中位于最顶部的圆环形冷水槽（4‑3）的槽底面上，每相邻两个圆环形冷水槽（4‑3）共用的侧壁上均加工有一个豁口二，冷水槽壳体（4‑2）的内壁上竖直设置有一个水槽隔墙二（4‑6），所述的水槽隔墙二（4‑6）穿过所有的豁口二设置，且水槽隔墙二（4‑6）与每个豁口二之间形成一个水槽出水口（4‑7），每相邻两个圆环形冷水槽（4‑3）的两个水槽出水口（4‑7）错位设置；壳体（4）的侧壁上设置有两个观察孔二，每个所述的观察孔二处均设置有一个观察窗二（5‑2），所述的两个观察窗二（5‑2）固定在壳体（4）的外侧壁上，所述的红外测温仪（8）紧邻其中一个观察窗二（5‑2）设置，底座（6）上设有导气孔二，所述的电磁阀（7）固定在底座（6）的导气孔二处，电磁阀（7）一端通过底座（6）上的导气孔二与反应室相通，电磁阀（7）另一端与真空泵（14）相连；所述的导气管（11）一端连接于进气箱，导气管（11）另一端紧密穿入上盖（3）上设有的导气孔通进反应室，导气管（11）上安装有导气阀门（12），所述的导气阀门（12）设置在反应室的外部，所述的载物台（9）设置在反应室内并固定在底座（6）上。