[发明专利]一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器有效

专利信息
申请号: 201610930814.4 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN106451074B 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 王东博;刘舒曼;贾志伟;刘峰奇;王占国 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/323 分类号: H01S5/323;H01S5/223;H01S5/40
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器结构。所述器件结构包括:一衬底(01);一下波导包层(02);一下限制层(03);一级联结构有源区(04);一上限制层(05);一上波导包层(06);一接触层(07);一横向分别限制层(08);一半绝缘InP层(09);一SiO2钝化层(10);一正面电极(11);一背面电极(12)。其中横向分别限制层(08)由掺Fe的半绝缘InGaAs构成,其厚度因激光器脊宽和激射波长的不同而不同。从接触层(07)到下波导包层(02)刻蚀出双沟窄脊台面,在双沟中填入半绝缘InP,为有源区提供横向散热通道;正面电极(11)与接触层(07)形成欧姆接触用于电注入,背面电极(12)与衬底(01)形成欧姆接触用于另一电注入。
搜索关键词: 一种 波导 优化 掩埋 异质结 量子 级联 激光器
【主权项】:
1.一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器,包括:衬底,衬底之上依次为下波导包层、下限制层、级联结构有源区、上限制层、上波导包层及接触层,在接触层与下波导包层之间存在双沟窄脊台面,双沟中填入半绝缘InP层,为有源区提供横向散热通道;在其特征在于,还包括:横向分别限制层,位于双沟的底部,半绝缘InP层的下方,用于增强横向光模式限制,其中,所述的横向分别限制层内填充材料为高折射率半绝缘材料,该高折射率半绝缘材料包括掺Fe的半绝缘InGaAs,其厚度因激光器脊宽和激射波长的不同而不同,并且有效折射率高于有源区。
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