[发明专利]一种含UCl3的高纯氯化物熔盐体系的制备方法、其熔盐体系及应用

摘要

本发明公开了一种含UCl₃的高纯氯化物熔盐体系的制备方法、其熔盐体系及应用，目的在于解决目前采用原位氧化法制备LiCl‑KCl‑UCl₃熔盐体系，主要以CdCl₂、CuCl₂和BiCl₃作为氧化剂，而氧化剂都存在难于制备高纯度试剂的难题，且采用最多的CdCl₂是剧毒试剂，迫切需要一种更环保、更经济的氧化剂，用于制备LiCl‑KCl‑UCl₃的问题。本发明提出一种含铀氯化物熔盐体系制备方法，以及一种高纯金属铀的制备方法。本发明制备的含铀氯化物熔盐含水和氧量极低，可用于干法后处理技术。采用本发明制备的金属铀纯度高，还能生产金属铀单晶，可满足对高纯铀的要求，具有较好的应用前景。同时，本发明生产工艺简单，对设备和实验条件要求低，能耗和污染小，具有较好的应用前景，值得大规模推广和应用。

主权项

1.一种含UCl3的氯化物熔盐体系的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：以碱金属或碱土金属氯化物组成的二元或三元氯化物熔盐体系作为反应介质，氯化锌作为氧化剂，金属铀作为反应物，进行如下氧化还原反应：3ZnCl2+2U＝3Zn+2UCl3，氧化还原反应的操作温度为400～650℃，反应结束后，即得含UCl3的氯化物熔盐体系。