[发明专利]薄膜晶体管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610932307.4 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN108023016B 公开(公告)日: 2020-07-10
发明(设计)人: 李东琦;魏洋;姜开利;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/30;H01L51/05;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
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摘要: 一种薄膜晶体管的制备方法,包括以下步骤:提供一栅极,在所述栅极的表面设置一绝缘层;提供一碳纳米管膜,铺设该碳纳米管膜于一所述绝缘层表面;将所述碳纳米管膜置于扫描电镜下拍摄照片,区分该碳纳米管膜中的金属型碳纳米管和半导体型碳纳米管;除去碳纳米管膜中的金属型碳纳米管,形成一半导体层;间隔形成一源极及一漏极,并使该源极及漏极与所述半导体层电连接,得到一薄膜晶体管。
搜索关键词: 薄膜晶体管 制备 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管的制备方法,其包括以下步骤:提供一栅极,在所述栅极的表面设置一绝缘层;提供一碳纳米管膜,铺设该碳纳米管膜于一所述绝缘层表面;将所述碳纳米管膜置于扫描电镜下拍摄照片,区分该碳纳米管膜中的金属型碳纳米管和半导体型碳纳米管;除去碳纳米管膜中的金属型碳纳米管,形成一半导体层;以及间隔形成一源极及一漏极,并使该源极及漏极与所述半导体层电连接,得到一薄膜晶体管。
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