[发明专利]兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机有效
| 申请号： | 201610934037.0 | 申请日： | 2016-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN108008607B | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 张成爽;潘炼东;于大维 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机，该系统包括标记板和至少一组探测支路，每组探测支路包括左探测支路和右探测支路，所述左探测支路和所述右探测支路对称设置，对称轴与所述物镜的光轴平行，所述标记板设置在所述工件台上。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机的系统的空间需求。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现工件的调焦调平及对准，提高了光刻机的工作效率。本发明还公开了一种光刻机，包括物镜和工件台等组件，以及设置在所述物镜和工件台之间的上述兼顾对准和调焦调平的测量系统，节约了光刻机的空间占用率。 | ||
| 搜索关键词： | 兼顾 对准 调焦 测量 系统 及其 测量方法 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种兼顾对准和调焦调平的测量系统，设置在物镜和工件台之间，其特征在于，所述兼顾对准和调焦调平的测量系统包括标记板和至少一组探测支路，每组探测支路包括左探测支路和右探测支路，所述左探测支路和所述右探测支路对称设置，对称轴与所述物镜的光轴平行，所述标记板设置在所述工件台上。
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