[发明专利]一种配向膜的制作方法、制作装置及配向膜有效
| 申请号： | 201610934870.5 | 申请日： | 2016-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN106292076B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王慧莲;王炎;佟洁;王学路;刘金山;丁磊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种配向膜的制作方法、制作装置及配向膜。其中，制作方法包括：在衬底基板上涂覆电阻型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第一图层；对所述第一图层进行胺化反应；在形成有胺化后的第一图层的衬底基板上，涂覆光敏型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第二图层；对所述第二图层进行光照，使该第二图层形成用于使液晶分子定向排列的沟槽；对所述第二图层进行胺化反应。本发明将电阻型的聚酰胺共聚物的第一图形层以及光敏型的聚酰胺共聚物的第二图形层分别进行胺化，可以避免第一图形层和第二图形层相互作用，产生小分子物质，进而防止该小分子物质扩散到液晶层聚合成大颗粒物，导致显示画面出现亮点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作方法 制作 装置 | ||
【主权项】：
1.一种配向膜的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上涂覆电阻型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第一图层；对所述第一图层进行胺化反应；在形成有胺化后的第一图层的衬底基板上，涂覆光敏型的聚酰胺共聚物，生成配向膜的第二图层，所述光敏型的聚酰胺共聚物为光异构型材料；对所述第二图层进行光照，使该第二图层形成用于使液晶分子定向排列的沟槽；对所述第二图层进行胺化反应。
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