[发明专利]一种Ca3Si薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201610935012.2 | 申请日： | 2016-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN106480419A | 公开（公告）日： | 2017-03-08 |
| 发明（设计）人： | 温翠莲;熊锐;萨百晟;杨洪雷 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/06;C23C14/58 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种Ca3Si薄膜的制备方法。在本底真空度为6.5×10‑4 Pa，工作气体为高纯Ar气，采用磁控溅射沉积法在绝缘衬底上进行双靶循环溅射，一靶位放Ca靶，电源选用射频电源；另一靶位放Si单质靶，电源选用直流电源；先镀Ca层，接着镀Si层，以此为一周期；按此周期循环多次，从而得到具有叠层结构的薄膜，最后采用原位热处理获得Ca3Si薄膜。本发明的磁控溅射法制备工艺具有工艺简单、成本低等优势，可满足大规模生产需要。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ca3si 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种Ca3Si薄膜的制备方法，其特征在于：采用磁控溅射沉积法在绝缘衬底上进行双靶循环溅射，其中，一靶位放Ca靶，电源选用射频电源；另一靶位放Si单质靶，电源选用直流电源；先镀Ca层，接着镀Si层，以此为一周期；按此周期循环多次，从而得到具有叠层结构的薄膜，最后采用原位热处理获得Ca3Si薄膜。
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