[发明专利]一种等离子体处理装置

摘要

本发明涉及一种等离子体处理装置，施加射频电源的电感线圈中，包含串联的输入线圈、底层线圈、输出线圈，通过所述底层线圈上穿过上表面至下表面的通孔或通槽，将上方输入线圈和/或输出线圈在底层线圈上感应生成电涡流的回路截断，对底层线圈与其下方加热器之间的耦合面积进行缩减，减少射频能量的不必要损耗，并且使所述风扇的吹风能够经过电感线圈周边及贯通结构到达介电窗及加热器实施冷却，有效提升原先被电感线圈遮挡区域的局部散热效果。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包含引入反应气体的反应腔，所述反应腔的腔体内设有底部基座来放置待处理的基板；所述腔体的侧壁上设有腔盖，所述腔盖上设有介电窗，该介电窗设置有加热器；所述介电窗上设置有电感线圈，所述电感线圈的数量是一个或多个；所述电感线圈上方设置有风扇；任意一个所述电感线圈包含底层线圈，及位于底层线圈上方的连接射频电源的输入线圈和接地的输出线圈，所述输入线圈、底层线圈、输出线圈相互隔开并通过接线部件进行串联；所述底层线圈开设有穿过该底层线圈上表面至下表面的若干贯通结构。