[发明专利]一种离子RF加速结构及应用该结构的离子注入机有效
| 申请号： | 201610935300.8 | 申请日： | 2016-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN108024439B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 张丛 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H05H7/22 | 分类号： | H05H7/22;H01J37/317 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于离子加速的结构。本发明提供了一种新型离子RF加速结构，该离子RF加速结构具有离子加速效率高的优点。当该离子RF加速结构应用于离子注入机时，与已有离子注入机相比可以获得更高的离子加速能量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 rf 加速 结构 应用 注入 | ||
【主权项】：
1.一种离子RF加速结构，使通过其中的离子加速至比进入该结构时的离子能量更高的能量。该离子加速结构包括：腔体，用于提供离子加速的真空环境。漂移管，用于在某一段空间屏蔽电场，在其前后两个方向上的间隙内产生RF加速电场。RF加速电压产生部件，用于在漂移管上产生用于加速离子的高压。四极透镜，用于离子加速前后的聚焦。第一个可移动部件及使其移动的机械结构，此可移动部件位于沿束流方向上漂移管的后部。第二个可移动部件，用于使RF加速电压产生部件正常工作。
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