[发明专利]一种半导体芯片的通孔链结构阻值异常的定位方法有效
申请号: | 201610935559.2 | 申请日: | 2016-11-01 |
公开(公告)号: | CN106298579B | 公开(公告)日: | 2019-09-27 |
发明(设计)人: | 李辉;谢渊;仝金雨 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26;G01R27/02 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 430205 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明涉及半导体领域,尤其涉及一种半导体芯片的通孔链结构阻值异常的定位方法,定义处于所述预定位置的所述通孔链为待测试链,暴露所述待测试链两端的金属线;测试所述通孔链两端的所述金属线之间的电阻以得到第一测试阻值;于所述待测试链上定义预定数量的等长测试段,暴露每个所述测试段两端的金属线;测试每个所述测试段两端的所述金属线之间的第二测试阻值,根据所述第一测试阻值及所述第二测试阻值,确定阻值异常的通孔所在的所述测试段,本发明方法是一种针对于通孔链结构中阻值增加幅度不大的失效情况阻值异常通孔的定位方法,方法简单,易于操作且定位准确。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 芯片 链结 阻值 异常 定位 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体芯片的通孔链结构阻值异常的定位方法,其特征在于,提供一具有通孔链的待测试结构,还包括以下步骤:步骤S1、暴露所述待测试结构上的通孔链中一预定位置的通孔的上层金属;步骤S2、定义处于所述预定位置的所述通孔链为待测试链,暴露所述待测试链两端的金属线;步骤S3、测试所述通孔链两端的所述金属线之间的电阻以得到第一测试阻值;步骤S4、于所述待测试链上定义预定数量的等长测试段,暴露每个所述测试段两端的金属线;步骤S5、测试每个所述测试段两端的所述金属线之间的第二测试阻值,根据所述第一测试阻值及所述第二测试阻值,确定阻值异常的通孔所在的所述测试段;步骤S6、判断阻值异常的通孔所在的所述测试段中的通孔数量,如所述通孔数量为1则测试结束,退出;步骤S7、,将所述阻值异常的通孔所在的所述测试段定义为待测试链,并将所述待测试链对应的所述第二测试阻值赋值给所述第一测试阻值,返回所述步骤S4。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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