[发明专利]芯片级差分输出型电磁辐射测量标准单元结构在审

专利信息
申请号: 201610937683.2 申请日: 2016-10-25
公开(公告)号: CN106449457A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 赵毅强;何家骥;刘燕江;王佳;刘阿强 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 代理人: 刘国威
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及专用集成电路芯片技术领域,为能够在芯片级对专用集成电路芯片的电磁辐射情况进行测量。本发明采用的技术方案是,芯片级差分输出型电磁辐射测量标准单元结构,由电源环为起点的金属线顺时针由外向内环形走线,在环形走线进入到核心位置以后,通过不同金属层之间的通孔,从第二层金属将连接线连接回到电源环上,该线圈的输出Output 1从第三层金属引出,进行电磁辐射测量时,Output 1、Output 2形成差分输出。本发明主要应用于集成电路芯片设计制造场合。
搜索关键词: 芯片 级差 输出 电磁辐射 测量 标准 单元 结构
【主权项】:
一种芯片级差分输出型电磁辐射测量标准单元结构,其特征是,由电源环为起点的金属线顺时针由外向内环形走线,在环形走线进入到核心位置以后,通过不同金属层之间的通孔,从第二层金属将连接线连接回到电源环上,该线圈的输出Output 1从第三层金属引出,在未受到电磁辐射时,Output 1保持为高电平;由地线环为起点另一条金属线逆时针由外向内环形走线,在环形走线进入到核心位置以后,通过不同金属层之间的通孔,从第二层金属将连接线连接回到地线环上,该线圈的输出从第三层金属引出,在未受到电磁辐射时,Output 2保持为零电平;进行电磁辐射测量时,Output 1、Output 2形成差分输出。
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