[发明专利]一种基于VGF法的减少InP晶体孪晶的装置有效

专利信息
申请号: 201610937760.4 申请日: 2016-10-25
公开(公告)号: CN106381525B 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 杨翠柏;方聪;杨光辉 申请(专利权)人: 珠海鼎泰芯源晶体有限公司
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B11/00
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊;许向彤
地址: 519085 广东省珠海市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于VGF法的减少InP晶体孪晶的装置,包括,外部的炉体以及内部的同轴坩埚,隔热屏,同轴放置于坩埚与隔热屏之间的单段式加热器,以及同轴放置于坩埚与单段式加热器之间的变截面筒状结构,用于在传导过程中沿轴线方向产生由上至下逐渐增大的热阻,进而形成均匀的轴向温度梯度,使底部的籽晶开始逐渐向上生长晶体。本发明避免了使用多段式加热时,段与段之间轴向温度与段内部轴向温度不连续、不均匀,减少此处温度起伏,进而减少孪晶的生长,且控制系统和方法简单。
搜索关键词: 一种 基于 vgf 减少 inp 晶体 装置
【主权项】:
1.一种基于VGF法的减少InP晶体孪晶的装置,包括,外部的炉体以及内部的同轴坩埚,炉体侧壁与坩埚之间固定连接有隔热屏,坩埚内部放置有多晶料,底部放置有籽晶,坩埚下方安装有测温元件,多晶料上部放有氧化硼,其特征在于,还包括:单段式加热器,所述单段式加热器为单段电阻式杯状加热器,同轴放置于所述坩埚与所述隔热屏之间,与炉体固定连接,用于加热多晶态InP并提供晶体生长所需热能;以及筒状结构,用于在传导过程中产生热阻,同轴放置于所述坩埚与所述单段式加热器之间,且所述筒状结构与所述坩埚和所述单段式加热器均不接触,所述筒状结构的外壁面与所述单段式加热器的壁面平行,高度高于所述单段式加热器,垂直于轴线的剖截面为圆环状,壁面厚度沿轴线方向由上至下逐渐增加,产生的热阻由上至下逐渐增大;所述筒状结构的上端面高于所述坩埚顶部,且固定连接有保温盖;位于所述炉体顶部的上盖开有通孔,所述保温盖的上表面固定连接有多个导柱,所述导柱穿过所述通孔与导柱驱动板固定连接;所述炉体顶部的上盖安装有直线驱动器及配套的滑块,所述滑块与所述导柱驱动板固定连接;通过所述直线驱动器驱动所述滑块上下移动,带动所述筒状结构同步上下移动;还包括控制器,用于根据测温元件所测温度来控制所述滑块上下移动。
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