[发明专利]一种背照式图像传感器的背面结构及其制备方法

摘要

本发明涉及一种图像传感器，尤其涉及一种背照式图像传感器的背面结构及其制备方法，制备一衬底，衬底包括一凹槽，一感光二极管预制备区以及填埋于凹槽的底部下方的一金属互联层，于感光二极管预制备区处的衬底的表面覆盖一第一介质层，于凹槽的底部和侧壁以及第一介质层的表面覆盖一第一氧化物层，在第一金属层上对第二金属层进行图形化工艺，以在凹槽内形成金属垫，以及在感光二极管预制备区处的第一氧化物层上方由第二介质层和第一金属层形成多个栅格，工艺简单，生产成本较低，同时不影响形成图像传感器的后续工艺。

主权项

一种背照式图像传感器的背面结构，其特征在于，包括：衬底，包括一凹槽和一感光二极管预制备区；所述凹槽的底部下方填埋有一金属互联层；第一介质层，覆盖所述感光二极管预制备区处的所述衬底的表面；第一氧化物层，覆盖所述凹槽的底部和侧壁，并且覆盖所述第一介质层的表面；开口，同时穿过所述凹槽内的所述第一氧化物层和所述凹槽的底部的所述衬底，终止于所述金属互联层；第二介质层，覆盖所述第一氧化物层的表面，以及所述开口的侧壁；第一金属层，覆盖所述第二介质层，并填充所述开口且与所述金属互联层接触；多个金属栅格，由图形化位于所述感光二极管预制备区的所述第二介质层和一第一金属层得到；金属垫，形成于所述凹槽内的所述第一金属层的表面。