[发明专利]气体分析装置在审

专利信息
申请号: 201610941635.0 申请日: 2016-10-25
公开(公告)号: CN107024438A 公开(公告)日: 2017-08-08
发明(设计)人: 井户琢也 申请(专利权)人: 株式会社堀场制作所
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G01N21/01
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司11290 代理人: 鹿屹,李雪春
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种气体分析装置,利用对测量光的吸光,高精度地分析对象气体。气体分析装置(100)包括多个光源(1‑1、1‑2、……1‑n)、导入部(5)、受光部(7)和分析部(94),多个光源(1‑1、1‑2、……1‑n)分别同时输出测量光(Lm1、Lm2、……Lmn)。导入部(5)将多种测量光(Lm1、Lm2、……Lmn)导入测量空间(S)。受光部(7)测量合计强度(Im)。分析部(94)基于多种测量光经过存在多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间(S)时由受光部(7)测量的作为合计强度(Im)的测量对象强度(Id)与多种测量光经过不存在多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间(S)时由受光部(7)测量的作为合计强度(Im)的基准强度(Id)之差,进行对象气体的分析。
搜索关键词: 气体 分析 装置
【主权项】:
一种气体分析装置,对存在于测量空间的气体进行分析,其特征在于,包括:多个光源,同时输出存在于所述测量空间的多种对象气体中的任意的对象气体能够吸光的固有波长范围的测量光;导入部,将从所述多个光源同时输出的多种测量光导入所述测量空间;受光部,测量合计强度,通过对从所述导入部导入且经过所述测量空间的多种测量光的强度进行合计而得到所述合计强度;以及分析部,基于所述多种测量光经过存在所述多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间时作为由所述受光部测量的合计强度的测量对象强度与所述多种测量光经过不存在所述多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间时作为由所述受光部测量的合计强度的基准强度之差,进行所述对象气体的分析。
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