[发明专利]一种沉积石墨烯薄膜的设备及其沉积方法有效
申请号: | 201610941638.4 | 申请日: | 2016-10-31 |
公开(公告)号: | CN106480423B | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 李恕广 | 申请(专利权)人: | 山东赛帝格新材料有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/50 |
代理公司: | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 | 代理人: | 刘志毅 |
地址: | 264000 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种沉积石墨烯薄膜的设备,包括腔体,腔体的顶部设置有电极板,腔体的底部设置有加热板,加热板上设置有若干个支架,支架上放置有沉积基板,腔体的侧壁设置有若干个第一气孔;加热板内设置有若干个相互平行的加热棒,加热棒与加热板顶部之间设置有导热板,导热板与加热棒之间设置有第一真空腔室,相邻两个加热棒之间设置有第二气孔;气源供气管通过分流阀连接有第一供气支路和第二供气支路,气源供气管上设置有预加热器,第一供气支路连接至第一气孔,第二供气支路连接至第二气孔。本发明还公开了一种使用上述沉积石墨烯薄膜的设备的沉积方法。本发明能够改进现有技术的不足,可以提高石墨烯沉积的产品良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 石墨 薄膜 设备 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种沉积石墨烯薄膜的设备,包括腔体(1),其特征在于:腔体(1)的顶部设置有电极板(2),腔体(1)的底部设置有加热板(3),加热板(3)上设置有若干个支架(4),支架(4)上放置有沉积基板(6),腔体(1)的侧壁设置有若干个第一气孔(5),第一气孔(5)位于加热板(3)和沉积基板(6)之间;加热板(3)内设置有若干个相互平行的加热棒(7),加热棒(7)与加热板(3)顶部之间设置有导热板(8),导热板(8)与加热棒(7)之间设置有第一真空腔室(9),相邻两个加热棒(7)之间设置有第二气孔(10);气源供气管(11)通过分流阀(12)连接有第一供气支路(13)和第二供气支路(14),气源供气管(11)上设置有预加热器(21),第一供气支路(13)连接至第一气孔(5),第二供气支路(14)连接至第二气孔(10),第二供气支路(14)贯穿第一真空腔室(9),第二供气支路(14)与加热棒(7)相接触,第二供气支路(14)上连接有若干个导热棒(15),导热棒(15)顶部设置有伸缩端(16),伸缩端(16)与导热板(8)的底面选择性接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东赛帝格新材料有限责任公司,未经山东赛帝格新材料有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610941638.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的