[发明专利]一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的方法及系统在审
| 申请号： | 201610948968.6 | 申请日： | 2016-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN106441126A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 彭先德;向勇 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 成都玖和知识产权代理事务所(普通合伙)51238 | 代理人： | 黎祖琴 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜技术领域，具体涉及一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的方法及系统。一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的方法，提供多组已知光学薄膜厚度的标准样品，获得多组标准样品中光学薄膜厚度与光学薄膜反射率光谱的色空间坐标之间的对应关系；基于测量待测样品的反射率光谱并获取其对应的色空间坐标，并依据所述对应关系得到待测样品的光学薄膜厚度。在测量待测样品的反射率光谱时，对于待测样品表面的光学薄膜不会造成损害，且测试时间短，因此本发明所提供的方法具有对光学薄膜无损害，且测量快速的优点。一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的系统，具有对光学薄膜无损害，且测量快速的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 反射率 光谱 测量 光学薄膜 厚度 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种基于反射率光谱测量光学薄膜厚度的方法，其特征在于：提供多组已知光学薄膜厚度的标准样品，获得多组标准样品中光学薄膜厚度与光学薄膜反射率光谱的色空间坐标之间的对应关系；基于测量待测样品的反射率光谱并获取其对应的色空间坐标，并依据所述对应关系得到待测样品的光学薄膜厚度。
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