[发明专利]一种低温合成聚羧酸系陶瓷减水剂的方法

摘要

本发明公开了一种低温合成聚羧酸系陶瓷减水剂的方法。该方法采用氧化‑还原体系反应单体共聚。首先，常温下在反应釜中加入一定量的磺酸类或羧酸类单体，去离子水，还原剂，链转移剂，缓慢升温至一定温度。然后分别配制一定浓度的引发剂溶液和羧酸类单体溶液，同时匀速滴加到反应釜中。最后加入碱溶液和水调节pH至7～8，冷却至常温得到聚羧酸系陶瓷减水剂。本发明具有工艺简单，聚合温度低，反应速率高，控制方便，能耗低，节约成本，生产效率高，无污染，更高的减水效果，更好的稳定性，对各种陶瓷原料都能很好的适应等优点。

主权项

1.一种低温合成聚羧酸系陶瓷减水剂的方法，其特征在于包括以下工艺步骤：(1)向反应釜中加单体A、无机链转移剂及还原剂，并加入水，水浴加热到40℃～60℃，恒温搅拌；(2)将单体B溶解于水中，匀速滴加到所述反应釜中，同时滴加引发剂水溶液；(3)在40℃～60℃持续恒温搅拌条件下，滴加结束后，持续搅拌反应3～5h；反应结束后，加入碱溶液和水调节pH至7～8，冷却至室温后即得到聚羧酸系陶瓷减水剂；所述单体A为2‑丙烯酰胺2‑甲基丙烷磺酸、衣康酸、马来酸酐或烯丙基磺酸钠的其中一种；所述引发剂为过硫酸盐和过氧化氢的一种或多种；所述单体B为丙烯酸、甲基丙烯酸和甲基丙烯磺酸钠的一种或多种；所述的无机链转移剂为次亚磷酸钠、次亚磷酸钾和亚硫酸氢钠的一种或多种；所述的还原剂为抗坏血酸；所述单体A和单体B的摩尔比为1:10～1:3；所述引发剂和还原剂的摩尔比为1:1～7:1。