[发明专利]一种铜锡硫光吸收层薄膜材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种铜锡硫光吸收层薄膜材料的制备方法，具体步骤为1）将0.2~1.0mol/L金属铜盐加入有机溶剂中，搅拌至完全溶解后，加入0.11~0.56mol/L金属锡盐继续搅拌至溶解，最后加入1.6~8.0mol/L的含硫化合物搅拌至完全溶解形成稳定的CTS前驱体溶液；2）将玻璃依次在丙酮、无水乙醇和去离子水中超声清洗干净；3）将前驱体溶液旋涂到玻璃基底上，然后在250℃~400℃干燥1~10分钟，反复旋涂沉积；4）待旋涂完毕后将样品置于400℃~600℃退火5分钟~2小时，升温速率为10~50℃/min，自然降温，在退火过程中，持续通保护气体N2，流量为10~35 mL/min，即可得到CTS薄膜。本发明采用一步溶液法制备铜锡硫薄膜，所得铜锡硫薄膜材料致密平整无孔洞，相成分单一。

主权项

一种铜锡硫光吸收层薄膜材料的制备方法，其特征在于具体步骤为：1）将0.2~1.0 mol/L金属铜盐加入有机溶剂中，搅拌至完全溶解后，加入0.11~0.56 mol/L金属锡盐继续搅拌至溶解，最后加入1.6~8.0 mol/L的含硫化合物搅拌至完全溶解形成稳定的CTS前驱体溶液；2）将玻璃依次在丙酮、无水乙醇和去离子水中超声清洗干净；3）将前驱体溶液旋涂到玻璃基底上，然后在250 ℃~400 ℃干燥1~10分钟，反复旋涂沉积；4）待旋涂完毕后将样品置于400 ℃~600 ℃退火5分钟~2小时，升温速率为10 ~50 ℃/min，自然降温，在退火过程中，持续通保护气体N2，流量为10~35 mL/min，即可得到CTS薄膜。