[发明专利]一种LED芯片透明电极及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201610952684.4 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN106449928A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 周圣军;刘梦玲;郑晨居;刘星童;高艺霖 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: H01L33/42 分类号: H01L33/42;H01L33/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 代理人: 汪俊锋
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种LED芯片透明电极及其制造方法,该透明芯片电极由高透射率的超薄金属掺杂银膜构成,超薄金属掺杂银膜由金属Ag掺杂一定比例的具有高功函数的金属采用共溅射的方式形成,通过控制溅射流量的方法控制金属的掺杂比例,控制溅射的时间可控制超薄金属掺杂银膜的厚度,以此方法形成的超薄金属掺杂银膜为单层金属合金,结构简单,该超薄金属掺杂银膜能与P型半导体形成良好的欧姆接触且具有高的透射率,简化了LED芯片的结构,提高了LED芯片的出光效率。
搜索关键词: 一种 led 芯片 透明 电极 及其 制造 方法
【主权项】:
一种LED芯片透明电极,为掺杂具有高功函数的金属的超薄银膜,掺杂的原子比为1‑10%。
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