[发明专利]一种表面等离激元电致激发和电学调制集成器件及其制作方法有效
申请号: | 201610955028.X | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106653957B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 李敬;孟祥敏;田利丰;夏静 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/06 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 张文祎;赵晓丹 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种表面等离激元电致激发和电学调制集成器件,包括背电极、半导体衬底、半导体有源结构、第一介质层、金属电极和波导结构、定向耦合结构、第二介质层、石墨烯结构以及石墨烯的金属电极和波导结构。通过电注入半导体量子阱材料,以近场耦合作用的方式激发金属和半导体介质界面的表面等离激元,并使之定向耦合输出后在金属‑介质波导上传播,实现表面等离激元的电致激发。利用石墨烯载流子浓度随所施加栅电压变化而使得费米能级、介电常数随之变化的特性,在金属电极、第二介质层和石墨烯构成的类场效应管结构中,通过石墨烯所加电压实现对电致激发表面等离激元传播的宽带、高速调制。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 离激元电致 激发 电学 调制 集成 器件 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种表面等离激元电致激发和电学调制集成器件,其特征在于:包括半导体衬底(101)、形成在半导体衬底(101)上的半导体有源结构(102)、形成在半导体有源结构(102)周围的第一介质层(103)、形成在半导体有源结构(102)和第一介质层(103)上的金属电极和波导结构(104),其中形成有定向耦合输出结构(105)、形成在金属电极和波导结构(104)上的第二介质层(106)、形成在第二介质层(106)上的石墨烯结构(107)、形成在石墨烯结构(107)上的石墨烯的金属电极和波导结构(108)和形成在半导体衬底(101)背面的背电极(110)。
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