[发明专利]一种提高LED芯片出光效率的制备工艺方法在审
申请号: | 201610955143.7 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106449929A | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 万巍;陈湛旭 | 申请(专利权)人: | 广东技术师范学院 |
主分类号: | H01L33/42 | 分类号: | H01L33/42 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司44100 | 代理人: | 张玲春 |
地址: | 510665 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高LED芯片(发光二极管)出光效率的制备工艺方法,将纳米图形化透明电极和铺覆介质纳米球的方法结合起来,即在一个LED芯片上先纳米图形化透明电极,然后铺覆单层的介质纳米球。该工艺步骤为:1)首先纳米图形化LED基片的透明电极ITO层,刻蚀出周期性的纳米柱阵列;2)然后在上述ITO纳米柱阵列层表面制备单层密排的介质纳米球阵列。本发明的设计原理简单,制备方法巧妙,是在已经纳米图形化透明电极的基础上再铺覆一层介质纳米球阵列,从而进一步提高纳米图形化透明电极的LED的出光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 led 芯片 效率 制备 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种提高LED芯片出光效率的制备工艺方法,其特征在于:将纳米图形化透明电极和铺覆介质纳米球的方法结合起来,即在一个LED芯片上先纳米图形化透明电极,然后铺覆单层的介质纳米球。
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