[发明专利]一种抗UV光学膜玻璃及其制备方法有效
| 申请号： | 201610955152.6 | 申请日： | 2016-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN106517817B | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 方凤军;何建军;洪蒙;陈多;徐威 | 申请（专利权）人： | 宜昌南玻显示器件有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 蒋悦 |
| 地址： | 443000 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗UV光学膜玻璃，该抗UV光学膜玻璃是由多层高折射材料H层与低折射材料L层交替层积在玻璃基板上形成的，玻璃基板上沉积有6层材料，从下往上依次为高折射材料H层，低折射材料L层，高折射材料H层，低折射材料L层，高折射材料H层，低折射材料L层，高折射材料H层。采用等离子体增强化学气相沉积技术在石英基片上制备高折射率材料，测试超声后样片的光谱，同浸泡前光谱相比，重合度非常好；测试百格，附着力仍然为5B。本专利是用气相沉积法将抗UV光学膜制备在玻璃上，附着力、耐候性、耐划性、光学性能、抗污性能均有优势。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 uv 光学 玻璃 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抗UV光学膜玻璃，其特征在于，该抗UV光学膜玻璃是由多层高折射材料H层与低折射材料L层交替层积在玻璃基板上形成的，高折射材料H层的材料为SiN或SiC与Ln2O3或Y2O3的组合，折射率1.8～2.5；低折射材料L层的材料为BaO、ZnCl2，折射率1.35～1.65。
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