[发明专利]太赫兹波段低散射目标支架及其制作方法有效
| 申请号： | 201610957290.8 | 申请日： | 2016-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN106556819B | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 武亚君;黄欣;王晓冰 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G01S7/02 | 分类号： | G01S7/02 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 尹兵 |
| 地址： | 200090 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种太赫兹波段低散射目标支架，包含以下步骤：确定初始制作目标支架的材料及形状；通过仿真计算，获取目标支架表面最大加工误差与反射率误差关系模型；根据确定的初始制作目标支架的材料及形状，制作对应的目标支架模型；利用太赫兹时域光谱系统对目标支架模型进行反射率测试，获取目标支架模型的反射率与太赫兹频率关系图；对目标支架模型的反射率与太赫兹频率关系图进行结果分析，确定最终制作目标支架的材料及形状。本发明的制作方法简单，制作的材料在太赫兹波段有较低的反射率，目标支架表面加工粗糙度满足测量要求，目标支架反射很小，解决了太赫兹波波段目标电磁散射测试目标支撑的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 赫兹 波段 散射 目标 支架 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种太赫兹波段低散射目标支架的制作方法，其特征在于，包含以下步骤：S1、确定初始制作目标支架的材料及形状；S2、通过仿真计算，获取目标支架表面最大加工误差与反射率误差关系模型；S3、根据确定的初始制作目标支架的材料及形状，制作对应的目标支架模型；S4、利用太赫兹时域光谱系统对不同材料制作的不同形状的目标支架模型进行反射率测试，获取不同材料制作的不同形状的目标支架模型的反射率与太赫兹频率关系图；S5、对不同材料制作的不同形状的目标支架模型的反射率与太赫兹频率关系图进行结果分析，确定最终制作目标支架的材料及形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海无线电设备研究所，未经上海无线电设备研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610957290.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于单目标跟踪的低计算复杂度贝努利滤波器
- 下一篇：一种直达波去除方法
