[发明专利]高反射率LED电极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610958903.X 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN106328781B 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 邹贤军 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/40;H01L33/42
代理公司: 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 代理人: 郑隽;周晓艳
地址: 423038 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了高反射率LED电极及其制备方法,该制备方法是通过电子束真空蒸发的镀膜方式蒸镀电极,蒸镀电极膜层的先后顺序为Ni/Al/Rh/Ti/Ni/Au。与现有的反射电极结构相比,本电极增加了Rh层,在与卤素元素的化学药品接触时增加了稳定性,由此可有效降低电极翘起或掉电极等异常的发生,并且与传统的Ni/Au结构或者Cr/Pt/Au相比,本高反射率电极提升LED芯片亮度约2%。
搜索关键词: 反射率 led 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种高反射率LED电极的制备方法,其特征在于,通过电子束真空蒸发的镀膜方式蒸镀电极,蒸镀电极膜层的先后顺序为Ni/Al/Rh/Ti/Ni/Au。
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