[发明专利]多层膜结构有效
| 申请号： | 201610961812.1 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN108018550B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 叶均蔚 | 申请（专利权）人： | 叶均蔚 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C14/06;C23C14/32;C23C14/34 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王玉双;鲍俊萍<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 中国台湾新竹市东区光明*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明公开一种多层膜结构，由一高熵材料膜层与一非高熵材料膜层交互堆栈而成；该多层膜结构至少包含两层高熵材料膜层，且该多层膜结构的一总纳米压痕硬度至少为10GPa。由于现有多层镀膜系统所包含的膜层都属于非高熵材料，导致多层镀膜系统的材料组成设计上受到限制；有鉴于此，本发明特别将至少两个高熵材料膜层与其它非高熵材料膜层相互堆栈，或者至少两个高熵材料膜层相互堆栈，借此方式形成可被镀于一工件基材表面的一种多层膜结构。由于此多层膜结构具有能够阻碍裂缝扩张与应变变形的层间界面，因此能够提升工件基材表面的硬度与韧性。另外，利用膜层间光学的干涉，此多层膜结构可以产生不同的色彩，借以改善或改变工件基材表面的外观颜色。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 膜结构 | ||
【主权项】：
1.一种镀于工件基材表面的多层膜结构，其特征在于，由一高熵材料膜层与一非高熵材料膜层交互堆栈而成；该多层膜结构至少包含两层高熵材料膜层，且该多层膜结构的一总纳米压痕硬度至少为10 GPa，而其厚度至少0.1μm。/n
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