[发明专利]基于平台系统的检测方法有效

专利信息
申请号: 201610963894.3 申请日: 2016-10-28
公开(公告)号: CN106483552B 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 吴金杰;周振杰;廖振宇;余继利 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: G01T7/00 分类号: G01T7/00
代理公司: 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11539 代理人: 李楠
地址: 100020 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例涉及一种基于平台系统的检测方法,包括:将X光机平台设置在系统底板的第一导轨上;将探测器平台设置在第二导轨上;将滤波架设置于X光机平台和探测器平台之间;驱动X光机平台在第一导轨上运动至工作位置;并且,驱动探测器平台在第二导轨上运动至工作位置;调节X光机平台的位置,调整滤波架,使X光机的X光出射位置、滤波架上插接的附加滤波片中心和探测器的接收X射线位置在同一直线上;X光机产生初始X射线束;初始X射线束经过附加滤波片过滤处理,对低于第一阈值能量的射线进行滤除;探测器接收过滤后X射线束,光子沉积在探测器晶体中,通过电子学器件生成电信号,得到能谱数据;调节管电压和附加过滤获得不同的辐射质。
搜索关键词: 基于 平台 系统 检测 方法
【主权项】:
1.一种基于平台系统的检测方法,其特征在于,所述检测方法包括:将X光机平台设置在平台系统的系统底板的第一导轨上;其中,X光机平台上架设有X光机;将探测器平台设置在系统底板的第二导轨上;其中,探测器平台上架设有探测器;将滤波架设置于X光机平台和探测器平台之间,滤波架上插接有附加滤波片;控制第一电机驱动X光机平台在第一导轨上运动至工作位置;并且,控制第二电机驱动探测器平台在第二导轨上运动至工作位置;调节X光机平台的位置,调整滤波架,使X光机的X光出射位置、滤波架上插接的附加滤波片中心和探测器的接收X射线位置在同一直线上;其中,所述调节所述X光机平台的位置具体为:开启所述X光机平台上的激光校准器,发射激光;其中,所述X光机射出的X射线束与所述激光的出射方向平行;调节所述X光机平台的升降装置,使所述激光校准器发射的激光射向所述探测器平台的激光接收器;调节所述X光机平台的俯仰台和旋转台,使所述激光校准器发射的激光射至所述激光接收器的中心;所述调整所述滤波架具体为:转动所述滤波架,使所述激光校准器发射的激光射向所述滤波架;其中,所述滤波架包括支撑杆和连接部;并且,调节所述支撑杆的高度,旋转所述支撑杆的角度,使激光校准器发射的激光射向所述滤波架的预定位置,使所述X光机的X光出射位置、所述滤波架上插接的附加滤波片中心和所述探测器的接收X射线位置在同一直线上;所述俯仰台包括第一台面、第二台面和俯仰调节螺栓;所述第一台面通过所述俯仰调节螺栓架设于所述第二台面的上方;所述调节X光机平台的俯仰台具体为:旋转所述俯仰调节螺栓,使所述第一台面根据所述俯仰调节螺栓转动产生相应倾斜;X光机产生初始X射线束;初始X射线束经过附加滤波片过滤处理,对低于第一阈值能量的射线进行滤除;探测器接收过滤后X射线束,光子沉积在探测器晶体中,通过电子学器件生成电信号,得到能谱数据;其中,所述能谱数据为光子能量与光子数的对应关系;调节管电压和附加过滤获得不同的辐射质;所述辐射质包括平均能量、谱分辨率、第一半值层和同质系数;其中,所述调节管电压具体为:改变所述初始X射线束的强度和平均能量。
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