[发明专利]正反互补角度的研磨装置及研磨方法有效

专利信息
申请号: 201610965439.7 申请日: 2016-10-31
公开(公告)号: CN106493636B 公开(公告)日: 2019-02-26
发明(设计)人: 黄杰丛;董旭光;关卫林;江毅;全本庆 申请(专利权)人: 武汉光迅科技股份有限公司
主分类号: B24B37/27 分类号: B24B37/27
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 鲁力
地址: 430205 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于光通讯器件设计制造领域,用于波导、芯片、FA的端面研磨、抛光,是一种通用性极强的研磨装置。具体涉及正反互补角度的研磨装置及研磨方法,包括:新研磨盘(5),设置在新研磨盘(5)上的支撑筒(1),所述新研磨盘(5)上设有至少一个用于放置用于研磨波导(7)的研磨单元(8)放置槽,斜压板(6)通过顶紧螺钉(9)将波导(7)压在研磨单元(8)的斜面上。本发明装载装置具备如下优点:1、装夹方便快捷,不伤波导;2、可以同时研磨多种角度的波导;3、同一研磨单元可以研磨互补角度的波导;4、可以应用于不同尺寸、不同类型、不同角度的波导研磨、抛光,通用性很强。
搜索关键词: 正反 互补 角度 研磨 装置 方法
【主权项】:
1.正反互补角度的研磨装置,其特征在于:包括:新研磨盘(5),设置在新研磨盘(5)上的支撑筒(1),所述新研磨盘(5)上设有至少一个用于放置用于研磨波导(7)的研磨单元(8)放置槽,斜压板(6)通过顶紧螺钉(9)将研磨单元(8)紧压在研磨盘(5)上;研磨单元(8)包括一个研磨本体以及设置在研磨本体侧面的斜面(8e);研磨本体两端设有两个对称凸块,用于研磨本体的装配定位。
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