[发明专利]一种改善4吋图形化衬底干法刻蚀一致性的下托盘及方法有效
| 申请号： | 201610968659.5 | 申请日： | 2016-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN106449344B | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 冯磊 | 申请（专利权）人： | 湘能华磊光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 长沙七源专利代理事务所(普通合伙) 43214 | 代理人： | 郑隽;周晓艳 |
| 地址： | 423038 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改善4吋图形化衬底干法刻蚀一致性的下托盘及方法，包括承片单元、小通气孔、大通气孔、螺丝孔、定位销和凹槽，所述定位销位于下托盘直径方向相对两侧；所述承片单元凸起均匀分布于下托盘表面，且承片单元顶部边缘位置设有凹槽；所述大通气孔和螺丝孔均匀分布在承片单元周围，以所述承片单元圆心为几何中心呈菱形均匀分布有小通气孔；冷却气体通过小通气孔进入承片单元与衬底之间的密闭空间，对衬底进行冷却；位于中心位置的承片单元多设一个小通气孔增强冷却效果，保证整盘衬底刻蚀的一致性；本发明生产的4吋LED图形化衬底片间尺寸差异小于2％，片内尺寸差异小于1.5％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 图形 衬底 刻蚀 一致性 托盘 方法 | ||
【主权项】：
1.一种改善4吋图形化衬底干法刻蚀一致性的下托盘，其特征在于，包括承片单元(1)、小通气孔(2)、大通气孔(3)、螺丝孔(4)、定位销(5)和凹槽(6)，所述定位销(5)位于下托盘直径方向相对两侧；所述承片单元(1)凸起均匀分布于下托盘表面，且所述承片单元(1)顶部边缘位置设有凹槽(6)；所述大通气孔(3)和螺丝孔(4)均匀分布在承片单元(1)周围，所述承片单元(1)均匀分布有小通气孔(2)，位于下托盘中心位置承片单元(1)比位于边缘位置承片单元(1)多设有1个小通气孔(2)；位于下托盘边缘位置承片单元(1)的小通气孔(2)数量为4个、5个、6个、7个或8个，所述大通气孔(3)与小通气孔(2)半径比例为1.5～2.0：1，所述小通气孔(2)以承片单元(1)圆心为几何中心呈正多边形分布于承片单元(1)。
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