[发明专利]一种液晶透镜模拟方法及装置在审
| 申请号： | 201610969656.3 | 申请日： | 2016-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN106371262A | 公开（公告）日： | 2017-02-01 |
| 发明（设计）人： | 查国伟 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/29 | 分类号： | G02F1/29;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种液晶透镜模拟方法及装置，所述方法包括建立液晶透镜的基本模型，所述基本模型至少包括一个液晶透镜；获取所述液晶透镜中的液晶分子加电后的折射率空间分布数据；建立液晶透镜的光学模型，所述光学模型至少包括一个液晶透镜；读取所述折射率空间分布数据并设置光源，以模拟所述光学模型中所述液晶透镜远场的光场分布；获取所述光学模型中所述液晶透镜的焦面附近的光强度分布数据，以评价所述液晶透镜的建模效果。通过上述方式，本发明能够兼顾液晶分子模拟与几何光场的模拟。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 液晶 透镜 模拟 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种液晶透镜模拟方法，其特征在于，包括：建立液晶透镜的基本模型，所述基本模型至少包括一个液晶透镜；获取所述液晶透镜中的液晶分子加电后的折射率空间分布数据；建立液晶透镜的光学模型，所述光学模型至少包括一个液晶透镜；读取所述折射率空间分布数据并设置光源，以模拟所述光学模型中所述液晶透镜远场的光场分布；获取所述光学模型中所述液晶透镜的焦面附近的光强度分布数据，以评价所述液晶透镜的建模效果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610969656.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：消除损耗的九角微带天线
- 下一篇：五角射频能量吸收型微带天线
