[发明专利]曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统有效

专利信息
申请号: 201610971760.6 申请日: 2016-10-28
公开(公告)号: CN106873311B 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 奥山隆志 申请(专利权)人: 株式会社ORC制作所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;金玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供曝光装置用曝光头及曝光装置用投影光学系统,其能够在保持图案像的清晰度的同时,提高吞吐量。在曝光装置中,具备分别由分割镜和引导镜构成的平行平面的组即6个反射镜对的图像分割光学系统(30)将来自DMD(22)的图案像按照DMD(22)的分割区域(DM1~DM6)而分割成6个,以使6个分割图案像(DA1~DA6)沿着主扫描方向X、副扫描方向Y而彼此分开的方式移动投影位置。
搜索关键词: 曝光 装置 投影 光学系统
【主权项】:
一种曝光装置用曝光头,其特征在于,其包括:光调制元件阵列,其将多个光调制元件进行二维排列而成;及投影光学系统,其使所述光调制元件阵列所反射的光在被描绘体的曝光面成像,所述投影光学系统具备:第1光学系统,其使来自所述光调制元件阵列的图案像的光在第1成像面成像;图像分割光学系统,其具备多个反射镜对,该多个反射镜对按照分割区域分割形成于所述第1成像面的图案像,形成多个分割图案像;及第2光学系统,其使所述多个分割图案像的光在所述曝光面成像,所述多个反射镜对分别具有:分割镜,其以与第1成像面交叉的方式配置;和引导镜,其与所述分割镜平行,且将来自所述分割镜的光导向所述第2光学系统,多个分割镜相对于第1成像面分别倾斜,使得多个分割图案像沿着主扫描方向及副扫描方向彼此分开地投影。
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