[发明专利]触控结构及其制作方法和触控装置在审

专利信息
申请号: 201610972840.3 申请日: 2016-11-07
公开(公告)号: CN108062187A 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 王静;郭总杰;张明;何敏;谢晓冬;张贵玉;郑启涛;胡小娟;张绪杰;李冬 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云;王晓燕
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明的实施例提供一种触控结构及其制作方法和触控装置,该触控结构包括相互交叉且在交叉的位置处彼此绝缘的第一触控电极和第二触控电极,该第二触控电极包括多个彼此间隔开的电极图案以及多个彼此间隔开的连接图案,每个连接图案将与其相邻的电极图案连接起来,并且每个连接图案的平面形状包括网格状图案。本发明实施例中的网格状连接图案不容易被使用者看到、可以降低连接图案处发生静电释放现象的几率并且不容易产生摩尔纹现象。
搜索关键词: 结构 及其 制作方法 装置
【主权项】:
1.一种触控结构,包括相互交叉的第一触控电极和第二触控电极,其中,在所述第一触控电极与所述第二触控电极的交叉位置处,所述第一触控电极和所述第二触控电极彼此绝缘,所述第二触控电极包括多个彼此间隔开的电极图案以及多个彼此间隔开的连接图案,每个连接图案与其相邻的电极图案连接,并且每个连接图案的平面形状包括网格状图案。
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