[发明专利]一种双分镜头直写式曝光机系统在审
申请号: | 201610973547.9 | 申请日: | 2016-11-07 |
公开(公告)号: | CN108073045A | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 俞庆平 | 申请(专利权)人: | 俞庆平 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 安徽省合肥市蜀山区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及激光曝光技术,具体涉及一种双分镜头激光直写式曝光机系统。目前市场上的扫描式激光直写式曝光装置的一个DMD只能输出一个条带,使用改变镜头的倍率的方式来扩大曝光覆盖面会牺牲曝光能量的强度,使用多个DMD组合的方式会导致系统的复杂性和系统成本等成倍提高、系统稳定性会下降。本发明在DMD下安装了一个分光系统,将数字微镜装置上的反射光分向两边,成倍地提高了单个数字微镜装置(DMD)所覆盖的面积。同等条件下,本发明所需要的数字微镜装置(DMD)的数量只有现有技术的一半。由于大幅降低了数字微镜装置(DMD)的使用量,系统的复杂性得到降低、也提高了系统运行的稳定性;同时DMD投入量减半,也大幅降低了设备成本。 | ||
搜索关键词: | 数字微镜装置 曝光机 直写 扫描式激光 系统稳定性 分光系统 激光曝光 激光直写 曝光能量 曝光装置 设备成本 同等条件 系统成本 系统运行 反射光 覆盖面 投入量 条带 两边 镜头 曝光 输出 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种双分镜头直写式曝光机系统,包括光学系统(100)、平台系统(200)、光源系统(300)、通讯模块(400)、计算机(500)、数据处理模块(600)以及基座(800);平台系统(200)安装在基座(800)上,平台系统(200)分为步进平台(210)和扫描平台(220),扫描平台(220)的位置处于步进平台(210)之上;所述的计算机(500)与平台系统(200)、通讯模块(400)、数据处理模块(600)分别相连接;所述的光源系统(300)由光源控制模块(320)和光源(310)组成,所述的光源控制模块(320)与通讯模块(400)相连接;所述的光学系统(100)与通讯模块(400)相连接;所述的光学系统(100)以及光源系统(300)均安装在扫描平台(220)上;其特征在于:所述的光学系统(100)由数字微镜装置(110)、一级成像系统(120)、分光系统(130)以及二次成像系统(140)组成;一级成像系统(120)安装在数字微镜装置(110)下方,分光系统(130)安装在一级成像系统(120)的下方,二次成像系统(140)安装在分光系统(130)下方。
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