[发明专利]阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料在审

专利信息
申请号: 201610974106.0 申请日: 2016-11-07
公开(公告)号: CN108059957A 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 叶崇志 申请(专利权)人: 上海新漫晶体材料科技有限公司
主分类号: C09K11/79 分类号: C09K11/79;C09K11/86
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201821 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料,所述阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料采用如下化学式:Lu2‑yYy‑z‑xCexMzSiO5‑n/2Rn,式中:M代表二价碱土金属子,R表卤族离子,x大于或等于0.0001,小于或等于0.1;z大于或等于0.0001,小于或等于0.1;n大于或等于0,小于或等于0.01。这种材料具有高光输出、快衰减、低余辉、结晶性能好等特性,可用于医疗PET成像、石油测井及其它工业领域。
搜索关键词: 阴阳 离子 掺杂 输出 余辉 闪烁 材料
【主权项】:
1.一种阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料,其特征在于,所述阴阳离子共掺杂高光输出低余辉闪烁体材料采用如下化学式:Lu2-yYy-z-xCexMzSiO5-n/2Rn式中:M代表二价碱土金属子,R表卤族离子,x大于或等于0.0001,小于或等于0.1;z大于或等于0.0001,小于或等于0.1;n大于或等于0,小于或等于0.01。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新漫晶体材料科技有限公司,未经上海新漫晶体材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610974106.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top