[发明专利]一种量子点发光二极管器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201610974932.5 申请日: 2016-11-07
公开(公告)号: CN106410056A 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 陈崧;钱磊;杨一行;曹蔚然;向超宇 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268 代理人: 王永文,刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种量子点发光二极管器件及其制备方法,所述器件依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、电子注入层以及顶电极,其中,所述量子点发光层至少有一面设置有成周期排布的多个凹槽。本发明通过在发光层中设置成周期排布的凹槽,增加载流子传输层与量子点发光层材料之间的接触面积,从而提高载流子注入量子点发光层的效率;还可减少载流子在量子点之间传输的阻隔,使更多的激子可通过载流子直接注入或较短的量子点之间迁移形成;还具有降低量子点之间解离激子的作用;还可减少因载流子注入、传输不平衡导致形成大量激子‑载流子的三体结构,减少激子猝灭;同时还可利用光栅耦合原理,增加二极管的光耦合以及光出射效率。
搜索关键词: 一种 量子 发光二极管 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种量子点发光二极管器件,依次包括衬底、底电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层、电子注入层以及顶电极,其特征在于,所述量子点发光层至少有一面设置有成周期排布的多个凹槽。
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