[发明专利]一种用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备及镀膜方法

摘要

本发明提供一种用于制作透明导电氧化物（TCO）薄膜的镀膜设备及镀膜方法，其中，所述镀膜设备在同一台真空设备中同时集成有离子镀膜源及溅射镀膜源。本发明结合离子镀膜和溅射镀膜的特点，把两种镀膜有效地融合，针对器件中对TCO薄膜的不同需求，可以在不暴露大气的条件下，连续制备具有不同光学性质和电学性质的TCO薄膜，获得高速的沉积速率，同时降低薄膜沉积过程中对衬底和器件表面所引起的损伤。本发明尤其适合高效率薄膜硅/晶体硅异质结太阳电池的正面和背面连续、低损伤制备TCO薄膜以及各种薄膜太阳电池中连续制备不同TCO薄膜，且本发明的设备和方法可适用于多种具有不同性能的TCO材料。

主权项

1.一种用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备在同一台真空设备中同时集成有离子镀膜源及溅射镀膜源；所述离子镀膜源及溅射镀膜源的镀膜方向相反，其中，所述离子镀膜源位于待镀膜基板的正面的下方，所述溅射镀膜源位于所述待镀膜基板的背面的上方，其中，所述待镀膜基板置于样品架里，所述样品架中设有与所述待镀膜基板尺寸相匹配的开孔，所述开孔为两层结构，上层开孔的尺寸比所述待镀膜基板的外形尺寸略大，下层开孔的尺寸比所述待镀膜基板的外形尺寸略小，在不翻转所述待镀膜基板的条件下，以分别在所述待镀膜基板的不同表面形成所述透明导电氧化物薄膜。