[发明专利]一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法在审
| 申请号： | 201610975321.2 | 申请日： | 2016-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN106567110A | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 华一新;武腾;汝娟坚;徐存英;李坚;张启波;李艳;高小兵;苏波;艾刚华;牛平召 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C25D3/66 | 分类号： | C25D3/66 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法，属于表面工程和表面处理技术领域。在惰气环境下，首先将季铵盐与多元醇混合均匀后形成低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入三氧化二铬和一氧化锰，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在控制电解液温度为35~75℃、槽电压为1.8~2.8V、阳极与阴极距离为0.6~2.4cm的条件下，在制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~5h，将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即能在阴极基体上得到铬锰合金镀层。采用该方法可制备得到的铬锰合金镀层光亮致密平整，与基体结合能力强，耐磨性及耐腐蚀性优异，避免了六价铬及镀液的危害，环境友好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低共熔 溶剂 沉积 合金 镀层 方法 | ||
【主权项】：
一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法，其特征在于具体步骤如下：（1）在惰气环境下，首先将季铵盐与多元醇按照摩尔比为2~4：1~2混合均匀后形成低共熔溶剂，然后向温度为20~80℃的低共熔溶剂中加入三氧化二铬和一氧化锰，制备得到低共熔溶剂电解液；（2）以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在控制电解液温度为35~75℃、槽电压为1.8~2.8V、阳极与阴极距离为0.6~2.4cm的条件下，在步骤（1）制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~5h，将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗，干燥后即能在阴极基体上得到铬锰合金镀层。
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