[发明专利]一种柔性半导体薄膜电子器件的封装结构及封装方法在审

专利信息
申请号: 201610975389.0 申请日: 2016-11-07
公开(公告)号: CN106450030A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 徐苗;阮崇鹏 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司44245 代理人: 陈文姬
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种柔性半导体薄膜电子器件的封装结构,包括生长于柔性半导体薄膜电子器件之上的水氧阻隔层/导电层组合结构和生长于水氧阻隔层/导电层组合结构之上的有机保护层;所述水氧阻隔层/导电层组合结构为一个或两个;所述水氧阻隔层/导电层组合结构由水氧阻隔层及生长于其上的导电层构成。本发明还公开上了一种柔性半导体薄膜电子器件的封装方法。本发明实现了在最小化器件厚度,有利于柔性器件正常使用的同时,可以获得优良的水氧隔绝性能,制作工艺简单,降低了制造成本。
搜索关键词: 一种 柔性 半导体 薄膜 电子器件 封装 结构 方法
【主权项】:
一种柔性半导体薄膜电子器件的封装结构,其特征在于,包括生长于柔性半导体薄膜电子器件之上的水氧阻隔层/导电层组合结构和生长于水氧阻隔层/导电层组合结构之上的有机保护层;所述水氧阻隔层/导电层组合结构为一个或两个;所述水氧阻隔层/导电层组合结构由水氧阻隔层及生长于其上的导电层构成;所述水氧阻隔层的材料由单层或多层薄膜构成;所述薄膜由Al2O3,Si3N4,SiO2,TiO2,MgO,ZrO2,ZnO中的一种以上材料制备而成;所述薄膜厚度为10nm~1000nm。
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