[发明专利]一种功率半导体器件终端结构有效
申请号: | 201610976437.8 | 申请日: | 2016-11-07 |
公开(公告)号: | CN106409884B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 张泉;唐龙谷;覃荣震;黄建伟 | 申请(专利权)人: | 株洲中车时代电气股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 412001 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开一种功率半导体器件终端结构,包括多个场限环和与所述场限环横向连接的第一pn结延展区,所述第一pn结延展区与所述场限环的掺杂类型相同,且掺杂浓度低于所述场限环的的掺杂浓度。所述功率半导体器件终端结构,通过设置与场限环横向连接的第一pn结延展区,延伸了场限环外边缘区域的pn结曲面,使各场限环都形成类似于JTE的结构,从而弱化场限环外边缘电场,实现提升整个终端结构的击穿电压,降低器件反向漏电流的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 半导体器件 终端 结构 | ||
【主权项】:
1.一种功率半导体器件终端结构,其特征在于,包括多个场限环和与所述场限环横向连接的第一pn结延展区,所述第一pn结延展区与所述场限环的掺杂类型相同,且掺杂浓度低于所述场限环的掺杂浓度,还包括与所述场限环或所述第一pn结延展区横向相邻且连接的第二pn结延展区,所述第二pn结延展区与所述第一pn结延展区的掺杂类型相同,且掺杂浓度低于所述第一pn结延展区的掺杂浓度;其中,所述第一pn结延展区位于所述场限环靠近芯片主体的一侧。
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