[发明专利]监控不同层金属层间隔离性能的测试结构及测试方法在审
申请号: | 201610984922.X | 申请日: | 2016-11-09 |
公开(公告)号: | CN106328630A | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 马杰 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/60 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种监控不同层金属层间隔离性能的测试结构及测试方法。本发明的监控不同层金属层间隔离性能的测试结构包括:第一测试端、与第一测试端连接的第一测试金属线、与第一测试金属线的至少一部分并行连接的冗余金属线、第二测试端、以及与第二测试端连接的第二测试金属线;其中,第二测试金属线包括与冗余金属线垂直布置的多条并行金属线;其中,第一测试金属线和冗余金属线处于第一金属布线层,第二测试金属线处于第二金属布线层,而且第一金属布线层和第二金属布线层是相邻金属布线层。 | ||
搜索关键词: | 监控 不同 金属 间隔 性能 测试 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种监控不同层金属层间隔离性能的测试结构,其特征在于包括:第一测试端、与第一测试端连接的第一测试金属线、与第一测试金属线的至少一部分并行连接的冗余金属线、第二测试端、以及与第二测试端连接的第二测试金属线;其中,第二测试金属线包括与冗余金属线垂直布置的多条并行金属线;其中,第一测试金属线和冗余金属线处于第一金属布线层,第二测试金属线处于第二金属布线层,而且第一金属布线层和第二金属布线层是相邻金属布线层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610984922.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。