[发明专利]一种锐钛矿晶型二氧化钛光催化薄膜及原子层沉积制备方法和应用在审
| 申请号： | 201610989315.2 | 申请日： | 2016-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN106629839A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 何丹农;卢静;涂兴龙;尹桂林;金彩虹;葛美英 | 申请（专利权）人： | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
| 主分类号： | C01G23/053 | 分类号： | C01G23/053;C03C17/34;B01J21/06;C23C16/455;C23C16/40 |
| 代理公司： | 上海东方易知识产权事务所31121 | 代理人： | 唐莉莎 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种锐钛矿晶型二氧化钛光催化薄膜及制备方法，以四氯化钛和高纯水为前驱源，以高纯氮为载流气体，通过重复四氯化钛和水蒸气沉积组合实现对薄膜厚度的控制；上述四氯化钛和水蒸气的沉积组合为2次四氯化钛脉冲和1次水蒸气脉冲，其沉积组合为四氯化钛脉冲/高纯氮冲洗/四氯化钛脉冲/高纯氮清洗/水蒸气脉冲/高纯氮清洗；四氯化钛沉积时的载气流量为150sccm，脉冲持续时间为0.2s，冲洗时间为2s；水蒸气沉积时的载气流量为200sccm脉冲持续时间为0.3s;冲洗时间为3s；沉积过程中低真空环境为6‑10hPa，沉积温度范围为200‑350℃。本发明在ITO和FTO导电玻璃及硅（100）基底上制备的TiO2薄膜为单一锐钛矿结构，具有良好的光催化性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 锐钛矿晶型二 氧化 光催化 薄膜 原子 沉积 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种原子层沉积制备锐钛矿晶型二氧化钛光催化薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）以四氯化钛和高纯水为前驱源，将经过统一清洗的基底在原子层沉积系统内加热至一定温度范围，在低真空环境下，以高纯氮为载流气体，通过重复四氯化钛和水蒸气沉积组合实现对薄膜厚度的控制；（2）上述四氯化钛和水蒸气的沉积组合为2次四氯化钛脉冲和1次水蒸气脉冲，其沉积组合为四氯化钛脉冲/高纯氮冲洗/四氯化钛脉冲/高纯氮清洗/水蒸气脉冲/高纯氮清洗；（3）四氯化钛沉积时的载气流量为150sccm，脉冲持续时间为0.2s，冲洗时间为2s；水蒸气沉积时的载气流量为200sccm脉冲持续时间为0.3s;冲洗时间为3s；（4）沉积过程中低真空环境为6‑10hPa，沉积温度范围为200‑350℃。
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