[发明专利]光束投射设备和系统有效
| 申请号： | 201610991851.6 | 申请日： | 2016-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107065440B | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 李受营;玉虫秀一;金炳局;安秉燮 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 钱大勇;张泓 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种系统包括孔洞阵列，包括：多个活动孔洞，所述活动孔洞中的各个孔洞被配置为选择性偏转穿过其的光束。所述系统还包括限制孔洞，被配置为使没有被活动孔洞偏转的光束通过至目标对象。所述系统还包括控制电路，被配置为控制活动孔洞以提供第一和第二不同的暴露持续时间分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 投射 设备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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