[发明专利]一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座在审
| 申请号： | 201610992079.X | 申请日： | 2016-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN106399962A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 郭文斌;霍晓青;司华青;张颖武;程红娟;徐永宽;张志鹏;于凯;练小正 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司12105 | 代理人： | 王凤英 |
| 地址： | 300220*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座。该设计在基座下部安装可使基座旋转用于调整高度的电机，电机的传动杆的一端伸入基座下部螺纹连接，且通过螺母锁紧。采用本设计解决了传统磁控溅射镀膜中，由于随着使用次数的增加，靶材消耗，靶基距变大，当其它参数不变时，所镀的膜会逐渐不符合要求的问题。确保了磁场的均匀性，进而保证了镀膜的均匀性及稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 磁控溅射 镀膜 均匀 稳定性 基座 | ||
【主权项】：
一种提高磁控溅射镀膜均匀性及稳定性的靶材基座，包括用于放置靶材（1）的基座（3），其特征在于，在所述基座（3）下部安装可使基座（3）旋转用于调整高度的电机（7），电机（7）的传动杆（5）的一端伸入基座（3）下部螺纹连接，且通过螺母（6）锁紧。
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