[发明专利]一种氢化铜薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611000760.8 申请日: 2016-11-14
公开(公告)号: CN108069393A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 张辰;徐颖峰;魏晨阳;施剑林 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C01B6/02 分类号: C01B6/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种氢化铜薄膜及其制备方法,所述氢化铜薄膜为形成在衬底表面的由10~20nm的纳米晶连续堆积而成的氢化铜薄膜。本发明中所述氢化铜薄膜可在任意亲水衬底表面沉积,宏观表面均匀,完整无开裂,微观形貌由10~20 nm纳米晶连续堆积而成,在催化、储氢以及光学等领域有潜在应用前景。
搜索关键词: 氢化铜 薄膜 衬底表面 纳米晶 制备 堆积 宏观表面 微观形貌 沉积 储氢 亲水 催化 应用
【主权项】:
1.一种氢化铜薄膜,其特征在于,所述氢化铜薄膜为形成在衬底表面的由10~20nm的纳米晶连续堆积而成的氢化铜薄膜。
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