[发明专利]用于燃料电池金属双极板的卧式磁控溅射系统及镀膜工艺

摘要

本发明涉及一种用于燃料电池金属双极板的卧式磁控溅射系统及镀膜工艺，所述的卧式磁控溅射系统包括真空镀膜腔室机构：包括顺次连接的三个腔室：第一镀膜腔室、过渡腔室和第二镀膜腔室；阴极及磁控溅射靶机构：包括设置在第一镀膜腔室和第二镀膜腔室内多对阴极/磁控溅射靶；分立流量监测充气机构；转架机构：包括设置有放置待镀膜工件的工件架的转架，用于驱动转架在真空镀膜腔室机构内移动的传动组件，以及驱动转架在镀膜时转动的转动动力组件。传动组件可以为齿轮组件传动、摩擦式传动或拨杆式传动，主要实现转架沿腔室的直线流水线运动。与现有技术相比，本发明充分保证了在较大范围内的镀膜均匀性，制备的膜层致密均匀，生产效率高等。

主权项

1.一种用于燃料电池金属双极板的卧式磁控溅射系统，其特征在于，包括：真空镀膜腔室机构：包括顺次连接的三个腔室：第一镀膜腔室(1‑1)、过渡腔室(1‑3)和第二镀膜腔室(1‑5)，其中，第一镀膜腔室(1‑1)用于对工件镀制膜层底层和过渡层，第二镀膜腔室(1‑5)用于对工件镀制膜层外层，相邻两腔室之间通过插板阀(1‑4)隔开，每个腔室上都设有独立的真空抽气组件；阴极及磁控溅射靶机构：包括设置在第一镀膜腔室(1‑1)和第二镀膜腔室(1‑5)内多对阴极/磁控溅射靶单元(1‑8)；分立流量监测充气机构：包括均匀布置在每个阴极/磁控溅射靶单元(1‑8)的磁控溅射靶四周的充气口(3‑2)，以及与充气口(3‑2)配套的流量控制器，在腔室靠近工件镀膜区域处分布有监测等离子体密度的光谱监测探头(3‑5)，所述的流量控制器、光谱监测探头(3‑5)还均与PEM控制器(3‑7)和PC主机(3‑6)连接，并组成闭环反馈控制的所述分立流量监测充气机构；转架机构：包括设置有放置待镀膜工件的工件架(2‑1)的转架(2)，用于驱动转架(2)在真空镀膜腔室机构内移动的传动组件，以及驱动转架(2)在镀膜时转动的转动动力组件。