[发明专利]涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置有效
| 申请号： | 201611007784.6 | 申请日： | 2016-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN107051831B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 吉原孝介;丹羽崇文 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05C11/08 | 分类号： | B05C11/08;B05C11/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。当在晶片上涂敷涂敷液而进行成膜时对形成的膜的膜厚进行调整，在旋涂法中，在通过高速旋转而使抗蚀剂液在晶片(W)上扩散之后，进行低速旋转，一边使晶片(W)的表面均匀，一边向晶片(W)的表面供给干燥气体而降低抗蚀剂液的流动性，之后提升晶片(W)的旋转速度而使抗蚀剂膜干燥，通过向晶片(W)的表面供给干燥气体而降低抗蚀剂液的流动性，能够加厚抗蚀剂膜的膜厚。因此，在通过晶片(W)的转速的调整而实现的膜厚的调整的基础上，能够通过向晶片(W)的表面供给干燥气体来调整膜厚，能够利用一个抗蚀剂液形成更广范围的膜厚的膜。 | ||
| 搜索关键词： | 涂敷膜 形成 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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