[发明专利]一种抛光垫

摘要

本发明公开了一种抛光垫，解决了现有抛光垫存在的抛光液分布不均、抛光速率和平整化程度有待进一步提高的问题。技术方案至少包括圆形的抛光层，所述抛光层上表面开有供抛光液流动的沟槽，所述沟槽由圆周走向型沟槽和径向走向型沟槽组成，所述圆周走向型沟槽是以抛光层圆心为中心的圆周走向的几何中心对称图形，所述图形的边m≥3，所述径向走向型沟槽是沿圆心向圆周方向散射出来的直线或/和曲线，且与圆周走向型沟槽具有交叉点。本发明结构简单、能使抛光液在抛光区均匀分布和流动，最大程度保持抛光区内抛光液中反应物和产物的浓度均匀、提高抛光速率、提高晶片平面化程度。

主权项

1.一种抛光垫，至少包括圆形的抛光层，所述抛光层上表面开有供抛光液流动的沟槽，其特征在于，所述沟槽由圆周走向型沟槽和径向走向型沟槽组成，所述圆周走向型沟槽是以抛光层圆心为中心的圆周走向的几何中心对称图形，所述图形的边m≥3；所述径向走向型沟槽是沿圆心向圆周方向散射出来的直线或/和曲线，且与圆周走向型沟槽具有交叉点,其中,所述径向走向型沟槽由均匀交错布置的沿伸沟槽和非沿伸沟槽组成，所述沿伸沟槽以抛光层的圆心为起点，抛光层的圆周边缘为终点，所述非沿伸沟槽以抛光层的圆心为起点，其终点未及抛光层的圆周边缘。