[发明专利]减小光学薄膜内应力的镀膜方法在审
| 申请号： | 201611012072.3 | 申请日： | 2016-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN108070824A | 公开（公告）日： | 2018-05-25 |
| 发明（设计）人： | 聂旭光;林喜锋;付小燕 | 申请（专利权）人： | 上海域申光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/10 | 分类号： | C23C14/10;C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 赵朋晓 |
| 地址： | 201811 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种减小光学薄膜内应力的镀膜方法，将SiO2或者ZrO的薄膜基片放入真空室内在275‑285℃的温度下烘烤90min，关闭烘烤，进行蒸镀。能消除薄膜内应力或者减少应力的产生，最终保证膜厚不受内应力的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 烘烤 镀膜 减小 薄膜基片 放入 膜厚 蒸镀 薄膜 室内 保证 | ||
【主权项】：
1.减小光学薄膜内应力的镀膜方法，其特征在于，将SiO2 或者ZrO的薄膜基片放入真空室内在275-285℃的温度下烘烤90min，关闭烘烤，进行蒸镀。
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